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黄光制程/双工位曝光机

发布时间:2021-10-07 08:40:55 人气:

平行光源单面双工位曝光机专门用于film黄光制程而设计制作的专用设备,系统采用进口平行光源、双工位抽屉进出曝光平台交替工作进行film湿膜、干膜曝光。

设备特点

1.双工位曝光机双工位平台真空吸附将filmmask贴紧,曝光解析度20um

2.采用进口曲面mirror反射光学系统曝光均匀度: > 90%

3.灯源: uv能量积分器进行曝光能量设置和控制主动风冷式降温保护(有紧急停止保护)

4.智慧型人机界面及曝光能量控制(能量模式及时间模式)

5.双工位曝光机平台真空将film与mask贴紧(使用鉻版时可不用)

设备型号:zkue-m552


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